电子束光刻逐点直写，效率低、成本高、依赖进口：紫荆光刻用激光干涉技术，把晶圆级模板制作提速 10 倍

干涉光刻破解微纳器件量产之痛，紫荆光刻寻求融资

紫荆光刻技术（深圳）有限公司（以下简称“紫荆光刻”）正在推进新一轮融资。该公司成立于2022年，由香港大学、香港创新科技署与香港科学园共同孵化，专注于激光干涉纳米光刻技术的研发、纳米光刻设备的制造及高端微纳制造解决方案的提供，目前已有商用设备交付增强现实显示领域客户使用。

电子束光刻之困：新兴微纳器件量产等待新工具

微纳光学器件正在从实验室走向规模化量产。增强现实显示、3D传感器、车载光学、生物芯片等新兴应用，对超表面、衍射光栅、纳米压印模板等大面积周期性纳米结构提出了高频、低成本、高一致的制造需求。

当前主流的高精度纳米图形化工具是电子束光刻，其逐点直写模式在晶圆级模板制备中效率低、成本高，且相关设备长期依赖进口，交期与维护成本进一步抬高了门槛。以晶圆级模板制作为例，传统电子束方案耗时以小时乃至天计，单次加工成本昂贵，难以支撑新兴器件在研发验证与小批量试产阶段的快速迭代。

市场空间正在快速释放。据Grand View Research数据，全球光学超表面市场2025年规模约为1.7亿美元，预计2033年增至约6.5亿美元，年复合增长率约17.8%。在半导体设备国产化与关键核心技术自主可控的政策背景下，具备高效率、低成本优势的替代性光刻工具具有明确的产业价值。

从干涉条纹到晶圆级设备：激光干涉光刻的工程化路径

紫荆光刻的技术方案基于激光干涉光刻原理：多束相干激光在光刻胶表面干涉形成精细条纹，可一次性曝光出大面积周期性纳米结构，无需掩模，兼具分辨率、效率与成本优势。公司在全球范围内率先将该技术工程化为自动化晶圆级设备，相关成果于2022年获得日内瓦国际发明展金奖。

据公司披露及中国国际光电博览会（CIOE）参展资料，相比进口电子束光刻设备，紫荆光刻的激光干涉光刻机完成一次晶圆级模板制作的效率为电子束光刻机的10倍以上，成本仅为1/10。目前公司已形成VIL1000全自动步进重复式激光干涉光刻机、GIL2000紧凑型桌面式激光干涉光刻机等产品线，覆盖从研发打样到量产代工的全流程场景。

在商业模式上，紫荆光刻采取“设备销售＋制造服务”双轮驱动：一方面向客户销售激光干涉光刻设备，另一方面提供从概念验证、小批量试产到量产代工的一站式高端微纳制造服务，并承接纳米压印模板、超薄金属网格掩膜及微纳器件的定制打样。公司拥有4项美国发明专利、3项PCT专利及多项在审申请，涵盖创新微纳加工技术及应用。

港大团队领衔，设备已交付AR显示客户

紫荆光刻的研发团队主要来自美国普林斯顿大学、香港大学与清华大学，在纳米光刻、纳米压印与微纳加工领域拥有近20年技术积累。公司核心技术源自香港大学机械工程系李文迪教授团队——李文迪本科毕业于清华大学，后赴美国普林斯顿大学师从纳米压印技术发明人、美国工程院院士周郁（Stephen Y. Chou）教授，并曾在惠普实验室从事前沿光刻工艺研发，随后加入香港大学主导微纳制造相关研究。

现阶段，紫荆光刻已迈出商业化第一步：商用激光干涉光刻设备已交付增强现实显示企业使用，并亮相2026年中国国际光电博览会等行业展会。公司注册于深圳市宝安区，注册资本300万元，由香港关联公司紫荆创新（InterLitho Innovation Limited）全资持有，法定代表人为周忠伟。团队负责人还曾作为企业代表参与宝安区“科创宝安·英才荟”等产学研对接活动。

紫荆光刻正在推进新一轮融资，资金将用于设备量产交付、产线建设与市场拓展。在微纳光学器件量产需求与国产替代的双重驱动下，这家由高校孵化的光刻设备企业，正尝试为新兴器件制造商提供一条更快、更省的纳米图形化路径。