数亿元融资 + 顶尖团队，普雨科技开辟国产高端光刻设备突围新路径

长期以来，高端光刻设备是制约我国芯片产业升级的难题。当全球半导体行业将目光投向纳米压印这一突破性技术路线时，一家诞生于苏州工业园区的新锐企业正迅速崛起。

成立仅一年多的普雨科技（苏州）有限公司，凭借二十余年的技术沉淀与成果转化，已连续完成三轮融资，累计融资金额达数亿元。公司股东阵容汇聚蓝驰创投、元禾原点、启赋资本等知名财务投资机构，产业投资机构招商局创投，以及元禾控股、上海科创基金等政府投资平台，在“财务+产业+政府”多方协同赋能下，公司已快速成长为国内纳米压印光刻设备领域的领军企业，为国产半导体设备突围开辟了全新赛道。

行业迎来产业化拐点，国际巨头引领技术商业化浪潮

半导体产业的竞争，核心是高端装备的竞争。光刻作为芯片制造中技术最复杂、成本最高的核心环节，其成本占总生产成本的30%以上，生产周期占比更是接近50%。长期以来，我国在先进制程光刻设备领域受制于海外技术垄断，而纳米压印技术的兴起为打破这一格局提供了历史性机遇。

与传统EUV光刻机相比，纳米压印设备不仅采购成本仅为前者的数分之一，更能降低制造成本40%，同时具备超高分辨率和低能耗的显著优势，被业界视为有望替代EUV的下一代光刻核心技术方向。当前，国际半导体设备巨头已推动纳米压印技术实现商业化突破，相关设备已导入海力士、铠侠等全球存储巨头，标志着该技术正式迈入产业化拐点。

行业顶尖团队引领，填补国内技术空白

普雨科技创始团队深耕纳米压印与半导体设备领域多年，汇聚了一批在光刻技术、精密制造、半导体工艺及产业化落地等方向的资深专家，具备顶尖的技术研发实力、成熟的工程化经验与市场化开拓能力。

公司已组建覆盖软硬件开发、精密工艺、机械设计、供应链管理及客户端交付的全链条精英团队。核心成员均来自国内外知名半导体设备企业，在高精度套刻、光刻精度、良率管控等关键技术领域拥有长期技术积累与量产落地经验，形成了从前沿技术研发到产业化落地的完整能力闭环。

作为产业化落地的里程碑产品，普雨科技首台套纳米压印光刻设备已进入总装调试的关键冲刺阶段。该设备将率先落地AI与光互联这一战略高地，搭载多项自主研发核心技术模块，在对准精度、压印速率等关键性能指标上均达到领先水平，可广泛应用于下游多个场景。

公司表示，将紧抓纳米压印技术产业化关键窗口期，以“技术攻坚+产业落地”双轮驱动，加速核心设备迭代与规模化交付，为我国高端装备产业突破技术瓶颈、实现高质量发展注入自主创新动能，开辟差异化竞争新赛道。