Die inländische Testtechnologie erreicht lediglich 28 Nanometer: Jingzhixin setzt auf 5-8 Nanometer.
Ein 12-Zoll-Wafer muss in einer Wafer-Fabrik hunderte bis tausende Prozessschritte durchlaufen, und nach jedem Schritt wie Lithographie, Ätzung, Dünnschichtabscheidung und Ionenimplantation muss jemand einen „Blick darauf werfen“. Kleinste Abweichungen bei Partikeln, Mängeln im Muster oder kritischen Dimensionen können dazu führen, dass die gesamte Charge von Wafern unbrauchbar wird. Mess- und Prüfgeräte werden daher als „Augen“ und „Maßstäbe“ der Wafer-Herstellung bezeichnet. Je weiter die Prozessknoten voranschreiten, desto teurer, knapper und schwieriger herstellbar werden diese Augen. Jetzt hat ein Unternehmen, das weniger als ein Jahr alt ist, seinen Standort auf dem 5- bis 8-Nanometer-Knoten markiert.
Öffentliche Gewerbeinformationen zeigen, dass Jingzhixin (Shanghai) Electronic Technology Co., Ltd. im Dezember 2025 registriert wurde, mit einem eingetragenen Kapital von 10 Millionen Yuan RMB, dem gesetzlichen Vertreter Wang Rongsheng. Sein Geschäftsbereich umfasst die Herstellung und den Vertrieb von Spezialgeräten für Halbleiterbauelemente, die Herstellung von elektronischen Spezialgeräten, die Herstellung und den Vertrieb von Laboranalysegeräten, die Herstellung und den Vertrieb von optischen Geräten sowie Einträge wie Design und Dienstleistungen für integrierte Schaltungs-Chips, Softwareentwicklung und Dienstleistungen für die Integration von Informationssystemen. Jingzhixin konzentriert sich auf die Forschung und Entwicklung von Chip-Prüfgeräten für Prozessknoten von 5 bis 8 Nanometer. Das Ziel ist, „das erste in China hergestellte 5-8-Nanometer-Chip-Prüfgerät“ zu schaffen, um lokalisierte Ausbeutesteuerungslösungen für fortschrittliche Prozesslinien bereitzustellen, und hat kürzlich eine neue Finanzierungsrunde gestartet.
Augen und Maßstäbe: Ein Geschäft, das noch überwiegend von Importen dominiert wird
Die Ausbeute bei der Chipherstellung hängt zu einem großen Teil davon ab, wie früh Mängel erkannt werden können. Eine Übersicht der Branche für vorderstufige Mess- und Prüfgeräte von Zhiyan Consulting zeigt, dass der globale Markt für Halbleiterprüf- und Messgeräte im Jahr 2024 15,22 Milliarden US-Dollar erreichte, was einem Jahreswachstum von 18,7 % entspricht. Im gleichen Zeitraum hielten die fünf größten globalen Unternehmen einen Anteil von über 80 %, wobei KLA allein einen Marktanteil von über 50 % einnahm, sodass der Markt ein Muster von „einer Supermacht und mehreren starken Konkurrenten“ aufweist. Der Anteil der inländischen Versorgung liegt deutlich unter der Bedeutung dieses Abschnitts in den Produktionslinien: Der „Forschungsbericht zur chinesischen Wafer-Prüfgerätebranche 2024“ von LeadLeo Research Institute besagt, dass die Lokalisierungsrate chinesischer Halbleiter-Mess- und Prüfgeräte von etwa 2 % im Jahr 2020 auf etwa 5 % im Jahr 2023 gestiegen ist. Laut der wöchentlichen Branchenberichterstattung von Kaiyuan Securities vom November 2024 betrug die Lokalisierungsrate im Jahr 2023 nach Umsatzberechnung etwa 5,5 %. Andere öffentliche Berichte, die auf Statistiken von Yole verweisen, geben an, dass die gesamte Lokalisierungsrate vorderstufiger Mess- und Prüfgeräte im Jahr 2025 nur etwa 4,2 % betrug. Die Statistikmethoden verschiedener Institutionen unterscheiden sich, sodass die absoluten Werte nicht direkt miteinander verglichen werden sollten, aber sie weisen alle auf dieselbe Tatsache hin: Mess- und Prüfgeräte in Produktionslinien für fortschrittliche Prozessknoten werden noch überwiegend importiert.
Die Nachfrageseite expandiert weiterhin rasant. Laut Statistiken von Zhiyan Consulting betrug die durchschnittliche jährliche Wachstumsrate des Marktes für Halbleiterprüf- und Messgeräte auf dem chinesischen Festland von 2020 bis 2024 etwa 30 % und erreichte im Jahr 2024 43,8 Milliarden Yuan RMB. Die Branchenbewertung von Aijian Securities vom November 2026 verweist auf Daten von Yole, wonach der Markt für Halbleiterprüf- und Messgeräte auf dem chinesischen Festland im Jahr 2025 4,45 Milliarden US-Dollar erreichte, was etwa 24 % des globalen Marktes entspricht. Die durchschnittliche jährliche Wachstumsrate von 2020 bis 2025 betrug 19,5 %, und es wird erwartet, dass der Markt im Jahr 2026 um 35,9 % auf 6,05 Milliarden US-Dollar wächst. Die erforderliche Geräteausstattung pro Produktionseinheit steigt gleichzeitig an: Laut Berechnungen von Kaiyuan Securities benötigt eine 12-Zoll-Produktionslinie für fortschrittliche Prozesse mit einer monatlichen Produktion von 10.000 Wafern etwa das 1,7-fache an Mess- und Prüfgeräten im Vergleich zu einer Produktionslinie für ausgereifte Prozesse. Aijian Securities verweist auf die Angaben des Investorentags von KLA im Jahr 2026, wonach bei zwei Iterationen fortschrittlicher logischer Knoten die Anzahl der erforderlichen Prüfschritte pro Generation um etwa 30 % gegenüber der vorherigen Generation gestiegen ist, und der Prüfbereich hat sich von Oberflächenmängeln auf verborgene Mängel und wiederkehrende Mängel in der EUV-Lithographie ausgeweitet.
Für inländische Gerätehersteller bedeutet dies, dass Nachfrage und Hürden gleichzeitig bestehen. Der Wert von Mess- und Prüfgeräten muss durch die Verifizierungsergebnisse in den Produktionslinien der Kunden bestätigt werden. Die Forschungs- und Entwicklungsinvestitionen sind langwierig, die Kapitalbindung ist hoch, und sobald eine Entscheidung für einen Wiederkauf getroffen wurde, ist es nicht einfach, die Geräte auszutauschen. Diese Brancheneigenschaften bestimmen, dass die Prüfgeräte für fortschrittliche Prozesse kein Bereich sind, in dem man kurzfristig durch Erzählungen Marktanteile gewinnen kann.
Welchen Schwierigkeitsgrad hat der 5-8-Nanometer-Knoten eigentlich?
Aus technischer Sicht zeigen Statistiken von Zhiyan Consulting, dass im globalen Markt für vorderstufige Mess- und Prüfgeräte im Jahr 2024 optische Technologien einen Anteil von über 80 % ausmachten und Elektronenstrahltechnologien etwa 14 %. Guohai Securities fasste in seinem Branchenforschungsbericht vom Januar 2024 die Vor- und Nachteile dieser beiden Technologierouten zusammen: Optische Prüfung ist schnell und berührungslos, aber ihre Empfindlichkeit bei fortschrittlichen Knoten ist begrenzt. Die Elektronenstrahlprüfung hat eine höhere Genauigkeit, aber ihre Geschwindigkeit ist geringer und die Gerätekosten sind höher. Wenn die Linienbreite auf 5 Nanometer und darunter voranschreitet, bringen EUV-Lithographie und Mehrfachmusterungsprozesse komplexere Mängelformen mit sich, und die dreidimensionale Gestaltung der Bauteilstrukturen erhöht die Anforderungen an die Prüfdimensionen. Die herkömmliche optische Prüfung ist durch die Wellenlänge der Lichtquelle eingeschränkt, und ihre Fähigkeit, Mängel unterhalb der Nanometer-Ebene zu erkennen, wird unzureichend. Daher wird die Elektronenstrahlmessung und -prüfung mit Sub-Nanometer-Auflösung in der Branche als Kernmittel zur Steuerung der Ausbeute bei fortschrittlichen Prozessen angesehen, und Bilderkennungsalgorithmen werden weit verbreitet eingesetzt, um die Effizienz der Mängelklassifizierung und -erkennung zu verbessern.
Dieser Bereich ist gleichzeitig ein Schwerpunkt der Exportkontrolle. Die niederländische Regierung veröffentlichte am 15. Januar 2025 neue nationale Exportkontrollvorschriften, die ab dem 1. April 2025 die Genehmigungsanforderungen für fortschrittliche Halbleiterproduktionsgeräte erweitern. CITIC Securities fasste in seinem Forschungsbericht vom Januar 2025 zusammen, dass diese Runde der Kontrolle Prüfgeräte mit einer Genauigkeit von nicht mehr als 21 Nanometern umfasst (einschließlich Geräten mit einer Lichtquellenwellenlänge von weniger als 400 Nanometern, einer Auflösung von weniger als 1,65 Nanometern, zwei oder mehr Elektronenstrahlquellen und einer Kaltfeldemissions-Elektronenstrahlquelle) sowie Geräte zur Messung der Ausrichtgenauigkeit von Wafern nach der Entwicklung oder nach der Ätzung, die hauptsächlich für fortschrittliche Prozessknoten eingesetzt werden. Die gestiegene Schwierigkeit, Prüfgeräte für fortschrittliche Knoten zu beschaffen, erhöht die Priorität der Lösung des Problems der inländischen Versorgung weiter.
Ein direkterer Maßstab stammt aus der Lieferfähigkeit selbst. Der „Forschungsbericht zur chinesischen Wafer-Prüfgerätebranche 2024“, der von LeadLeo Research Institute und Frost & Sullivan im Mai 2024 veröffentlicht wurde, weist darauf hin, dass damals inländische Hersteller von Wafer-Prüfgeräten nur Produkte für Prozesse von 28 Nanometern und höher in großen Mengen liefern konnten, während Produkte für Prozesse unter 28 Nanometern sich noch in Forschung und Entwicklung sowie Verifizierung befanden. Die Produkte ausländischer Spitzenhersteller können im Allgemeinen Prozesse unterhalb von 2X-Nanometer abdecken, und das grafiklose Wafer-Mängelprüfgerät Surfscan SP7XP von KLA wird bereits für Prozesse von 5 Nanometern und darunter eingesetzt. Der tiefe Branchenbericht von Zhongyuan Securities vom Oktober 2026 verweist auf Daten von Jiwei Consulting, wonach Mess- und Prüfgeräte immer noch einer der Abschnitte mit der niedrigsten Lokalisierungsrate auf dem chinesischen Festland sind, wobei der Anteil zwischen 5 % und 10 % liegt. Das bedeutet, die Prüffähigkeit auf 5-8 Nanometer voranzubringen, ist nicht nur eine einfache Verbesserung bestehender Produkte, sondern erfordert die Überwindung einer ganzen Reihe von technischen und ingenieurstechnischen Hürden, die noch nicht durch die Massenproduktion erprobt wurden.
Der Fortschritt der Pioniere im Inland kann den Schwierigkeitsgrad dieser Aufgabe veranschaulichen. Nehmen wir Dongfang Jingyuan als Beispiel, das früh im Bereich der Elektronenstrahlmessung und -prüfung tätig ist. Laut seinem Börsenprospekt (Anmeldeentwurf) für das Sci-Tech Innovation Board und öffentlichen Berichten wie der Shanghai Securities News wurde dieses Unternehmen 2014 gegründet. Sein EBI-Gerät ist das erste in China erfolgreich entwickelte und durch die Industrialisierung verifizierte Elektronenstrahl-Mängelprüfgerät, das seit mehr als fünf Jahren in der Massenproduktion in Produktionslinien eingesetzt wird. Seine Produkte decken vier Kategorien ab: CD-SEM, EBI, DR-SEM und HV-SEM, und es besaß bis zum 31. Dezember 2025 201 erteilte Erfindungspatente. Am 28. September 2026 überschritt die kumulative Auslieferung seiner nanoskaligen Elektronenstrahl-Mess- und Prüfgeräte 100 Einheiten. Die Antwort auf die Anfrage im Anmeldeentwurf zeigt, dass das Unternehmen zwischen Mai und Juni 2026 einen Großauftrag in Höhe von insgesamt 153 Millionen Yuan ohne Steuern von einem führenden inländischen Speicherkunden (im Anmeldeentwurf als „Kunde G“ bezeichnet) erhalten hat. Trotz dieses Erfolgs wird sein rechnergestütztes Lithographie-Software im Bereich der Logikchipherstellung nur für die Massenproduktion bei Prozessknoten von 14 Nanometern und höher eingesetzt, während verwandte Produkte für fortschrittlichere Knoten wie 7 Nanometer und 5 Nanometer noch in der Verifizierung bei Kunden sind. Auf finanzieller Ebene betrugen die Betriebseinnahmen von Dongfang Jingyuan von 2023 bis 2025 191 Millionen Yuan, 375 Millionen Yuan bzw. 318 Millionen Yuan, und die Nettogewinne betrugen -239 Millionen Yuan, -150 Millionen Yuan bzw. -477 Millionen Yuan.
Die öffentlichen Fortschritte von zwei weiteren einheimischen Herstellern laufen ebenfalls auf das Wort „Verifizierung“ hinaus. Laut dem Forschungsbericht von Aijian Securities vom November 2026 hat das Hellfeldgerät von Jingce Electronics die Abnahme in einer 28-Nanometer-Produktionslinie bestanden und wird wiederholt an 14-Nanometer-Produktionslinien geliefert, während einige Geräte zur Schichtdickenmessung, zur optischen Messung kritischer Dimensionen (OCD) und Elektronenstrahlgeräte die Abnahme in einer 7-Nanometer-Produktionslinie bestanden haben. KZ-FT veröffentlichte am 26. Dezember 2026 sein erstes Elektronenstrahl-Gerät zur Messung kritischer Dimensionen MAGNOLIA EBM-600. Das Unternehmen gibt an, dass dieses Produkt hauptsächlich für kritische Prozessschritte bei der Herstellung fortschrittlicher Logik- und Speicherchips mit 1X-Nanometer konzipiert ist. Wenn man diese Aufzeichnungen zusammennimmt, sieht man, dass es bis heute keine nachprüfbaren Fälle von Massenauslieferung inländischer Prüfgeräte für den 5-8-Nanometer-Knoten gibt – das ist sowohl der Grund, warum Jingzhixin diesen Knoten gewählt hat, als auch die Hürde, die es überwinden muss.
Weniger als ein Jahr nach der Gründung: Was bereits bekannt ist und was noch nicht offengelegt wurde
Die Situation von Jingzhixin muss anhand dieses Maßstabs verstanden werden. Das Unternehmen konzentriert seine Forschungs- und Entwicklungsressourcen auf Prüfgeräte für Prozessknoten von 5 bis 8 Nanometer und hofft, inländische Lösungen für Produktionslinien mit fortschrittlichen Prozessen anzubieten, die sowohl Prüfempfindlichkeit als auch Durchsatzeffizienz berücksichtigen. Aus den Gewerbeanmeldungsinformationen geht hervor, dass das Geschäftsfeld des Unternehmens gleichzeitig die Herstellung und den Vertrieb von Spezialgeräten für Halbleiterbauelemente, Laboranalysegeräte und optische Geräte abdeckt und darüber hinaus Design und Dienstleistungen für integrierte Schaltungs-Chips, Softwareentwicklung und Dienstleistungen für die Integration von Informationssystemen umfasst, was eine Geschäftsstruktur mit kooperierenden Geräten und Software darstellt. Die Berichte machen gleichzeitig deutlich, dass das spezifische technische Konzept und die Schlüsselparameter von Jingzhixin noch durch weitere Offenlegungen der Verifizierungsergebnisse in den Produktionslinien bestätigt werden müssen.
Bis zum Zeitpunkt der Veröffentlichung sind keine Informationen über Produktveröffentlichungen, Geräteauslieferungen, Kundenimplementierung oder bestandene Verifizierung in Produktionslinien von Jingzhixin über öffentliche Kanäle zu finden, keine veröffentlichten Patente mit diesem Unternehmen als Anmelder wurden ermittelt, und der Bildungshintergrund und die industrielle Laufbahn des Gründers und des Kernteams sind ebenfalls nicht in öffentlichen Berichten zu finden. Für ein junges Geräte-Startup mit einem eingetragenen Kapital von 10 Millionen Yuan und einer Betriebszeit von weniger als einem Jahr stellen diese Lücken an sich kein negatives Urteil dar. Sie zeigen vielmehr, dass sich das Projekt noch in der frühesten Phase befindet, in der es von der Gewerbeanmeldung zu Forschung und Entwicklung sowie industrieller Verifizierung übergeht. In diesem Bereich sind jedoch Prototypauslieferung, Verifizierung in Kundenproduktionslinien und Großaufträge fast die einzigen nachprüfbaren Bewertungsmethoden.
Eine weitere nachprüfbare öffentliche Information stammt von verbundenen Unternehmen. Laut öffentlichen Berichten wie Tianyancha und Hexun Finance ist Wang Rongsheng, der denselben Namen wie der gesetzliche Vertreter von Jingzhixin trägt, auch gesetzlicher Vertreter von Jiangsu Fansheng Electronic Technology Co., Ltd. Letzteres hat ein eingetragenes Kapital von 20 Millionen Yuan RMB, und sein Geschäftsbereich überschneidet sich stark mit dem von Jingzhixin bei der Herstellung und dem Vertrieb von Spezialgeräten für Halbleiterbauelemente, der Herstellung optischer Geräte, der Herstellung von Laboranalysegeräten sowie Design und Dienstleistungen für integrierte Schaltungs-Chips. Die Arbeitsteilung, Ressourcenverteilung und Eigentumsrechte an geistigem Eigentum zwischen den beiden Einheiten wurden bisher nicht öffentlich erläutert – dies sind Punkte, die Investoren im Rahmen der Due Diligence einzeln überprüfen müssen.
Verwendung