Der globale Markt für Lithographieanlagen ist in Bewegung, und die Liste von 47 Kern-Konzeptaktien an der A-Börse wird groß angekündigt.
Am 13. Oktober schwankten die Aktienkurse von Unternehmen im Bereich Lithographiegeräte und stiegen an.
Zum Schluss der Börsenseite hatten Xinglai Yingcai (300260.SZ), Xuguang Electronics (600353.SH) und Kaimate Gas (002549.SZ) Limit-Up erreicht. Jiangfeng Electronics (300666.SZ), Guolin Technology (300786.SZ) und Huate Gas (688268.SH) stiegen um mehr als 10 %. Unternehmen wie Sudavigo (300331.SZ) und *ST Heke (002816.SZ) folgten der Aufwärtsbewegung.
Globale Großkonzerne kaufen Lithographiegeräte in Massen
Im Halbleiterindustriebereich spielt das Lithographiegerät als repräsentatives Produkt im Bereich der oberen Wertschöpfungskette eine entscheidende Rolle für die Branchenentwicklung und ist die Schlüsselkraft für den Fortschritt der Chip-Herstellungsprozesse und die Führung der Branchenentwicklung.
In jüngster Zeit gab es viele Aktivitäten im Bereich der Halbleiterlithographiegeräte. Großkonzerne wie Intel und Samsung haben die Bestellungen für Lithographiegeräte erhöht. Intel hat die Bestellmenge für High-NA EUV-Lithographiegeräte von ASML von einer auf zwei Exemplare und die Bestellmenge für EUV-Lithographiegeräte von drei auf fünf Exemplare erhöht. Samsung hat die Bestellmenge für EUV-Lithographiegeräte von ursprünglich fünf auf sieben Exemplare erhöht.
Die Branche hat darauf hingewiesen, dass mit dem kontinuierlichen Fortschritt der Chip-Herstellungsprozesse in Richtung 2 Nanometer und darunter der EUV-Prozess allmählich seine physikalischen Grenzen erreicht, während High-NA EUV die Kerntechnologie für die Zukunft der Halbleiterindustrie ist.
Es ist bekannt, dass die hohe numerische Apertur (High-NA) ein Maß für die Fähigkeit einer Linse ist, Licht zu fokussieren. Je höher der Wert, desto höher ist die Auflösung, und es können feinere Schaltungsmuster gezeichnet werden. Dies kann die Herstellungszeit erheblich verkürzen, die Fehlerrate verringern und die Ausbeute erhöhen. Im Hinblick auf den Preis kostet ein einzelnes High-NA EUV-Lithographiegerät etwa 370 Millionen US-Dollar (etwa 2,6 Milliarden Yuan), und es wird auch als das "Heiligtum" auf dem Chipmarkt bezeichnet.
Im vergangenen September hat SK Hynix angekündigt, dass es das erste serienmäßige High-NA EUV-Lithographiegerät der Branche in die Fabrik M16 in Icheon, Südkorea, eingeführt hat. Das eingeführte Gerät ist das TWINSCAN EXE:5200B von der niederländischen Firma ASML, das erste serienmäßige High-NA EUV-Gerät.
SK Hynix plant, durch die Einführung dieses Geräts den bestehenden EUV-Prozess zu vereinfachen und den Forschungs- und Entwicklungsablauf für die nächste Generation von Halbleiterspeichern zu beschleunigen, um so die Wettbewerbsfähigkeit in Bezug auf Produktleistung und Kosten zu sichern. Es gibt auch Meldungen, dass SK Hynix plant, in den nächsten zwei Jahren etwa 20 EUV-Lithographiesysteme neu zu erwerben, und das Investitionsvolumen wird voraussichtlich mindestens 6 Billionen Won betragen.
Es ist bemerkenswert, dass im Kontext der tiefgreifenden Veränderungen der globalen Halbleiterindustrie der Prozess der Heimatisierung von Lithographiegeräten in China einen großen Durchbruch erzielt hat.
Offizielle Daten zeigen, dass die heimischen Lithographiegeräte derzeit wichtige Fortschritte bei den Technologieknoten von 90 nm und darunter erzielt haben. Beispielsweise hat die von Shanghai Micro Electronics unabhängig entwickelte 600er-Serie von Lithographiegeräten die Massenproduktion des 90-nm-Prozesses erreicht, und die Forschungs- und Entwicklungsarbeiten an einem 28-nm-Tauchlithographiegerät werden fortgesetzt.
Kürzlich hat Shenzhen Wending Juxin angekündigt, dass das erste von der Firma unabhängig entwickelte hochpräzise Stepper-Lithographiegerät erfolgreich ausgeliefert wurde. Das Gerät wird hauptsächlich in der Halbleiterindustrie für Mini/Micro-LED-Optikelemente, Optochips, Leistungselemente und andere Verbindungshalbleiter eingesetzt und kann die Anforderungen an die Lithographieprozesse mit unterschiedlicher Lackdicke auf Siliziumscheiben, Saphir, SiC (Siliziumcarbid) und anderen Substraten erfüllen. Offizielle Daten zeigen, dass Wending Juxin im Mai 2023 gegründet wurde und sich in der Nanshan-Distrikts von Shenzhen befindet. Derzeit hat die Firma eine Produktionskapazität von 20 Lithographiegeräten pro Jahr und erwartet, dass das Jahresumsatz 2025 140 Millionen Yuan und der Nettogewinn 44,8 Millionen Yuan betragen werden.
Am 29. September hat Hongtian Co., Ltd.'s indirekt kontrollierte Tochtergesellschaft Honglei Optics angekündigt, dass ihr erstes HL-P20 Direktschreib-Lithographiegerät von einem FPC-Kunden in Südchina akzeptiert wurde. Das Gerät ist ein Zwei-Tisch-Laser-Direktschreib-Modell für den PCB-Bereich, das eine optische Auflösung von 20 μm, eine Positioniergenauigkeit von ±8 μm und eine Produktionskapazität von über 8,5 Flächen pro Minute hat und die Anforderungen an die Belichtung von FPC- und HDI-Leitungen erfüllt. Nach Massentests in der Kundenfabrik haben alle Parameter die Standards erfüllt, was bedeutet, dass das Produkt offiziell von der Märkte anerkannt wurde.
Im Jahr wurden bereits 9 Aktien verdoppelt
Der Durchbruch der Lithographiegerätetechnologie wird die Aufwertung der zugehörigen Industrien wie die oberen Materialien und Präzisionsmaschinen anregen und den Prozess der Heimatisierung von "Engpass"-Materialien wie Lithographierlack und optischen Komponenten beschleunigen, wodurch ein Branchenaufwertungsmuster mit "Führung durch die Marktführer und Durchbrüchen an mehreren Punkten" entsteht.
Die Daten von Flush zeigen, dass derzeit insgesamt 47 börsennotierte Unternehmen im Bereich der Lithographiegeräte auf dem chinesischen Aktienmarkt (A-Shares) vertreten sind. Betrachtet man die Leistung auf dem Sekundärmarkt, so haben sich bis zum Schluss der Börsenseite am 10. Oktober die Aktienkurse von 42 börsennotierten Unternehmen seit Jahresbeginn erhöht.
Unter ihnen haben die Aktienkurse von neun Unternehmen, darunter Lianhe Chemical (301209.SZ), Kaimate Gas (002549.SZ), Tengjing Technology (688195.SH), Xuguang Electronics (600353.SH), Juguang Technology (688167.SH), Xinqi Micro Equipment (688630.SH), Bochang Optoelectronics (301421.SZ), Maolai Optics (688502.SH) und Xinglai Yingcai (300260.SZ), sich verdoppelt.
Betrachtet man die heutige Kursentwicklung, so hat Xinglai Yingcai die Höchstkursbegrenzung erreicht. Eines der Kerngeschäftsbereiche der Firma ist die Forschung, Entwicklung, Produktion und Vertrieb von Reinheitstechnikmaterialien und hochreinen und ultrahochreinen Anwendungsstoffen. Die Produkte werden hauptsächlich in den Geschäftsfeldern Lebensmittelsicherheit, Biomedizin und Pansemiconductor eingesetzt. Im Bereich des Pansemiconductors können die hochreinen und ultrahochreinen Anwendungsstoffe der Firma die Anforderungen an spezielle Prozesse wie Reingas, Spezialgas und Messgenauigkeit erfüllen und auch die Anforderungen an den Vakuumgrad und die Reinheit im Pansemiconductor-Prozess erfüllen.
Nach einer Unternehmensbesichtigung durch Institutionen am 27. August 2025 wurden das Vakuumsystem AdvanTorr und das Gassystem NanoPure der Firma in der Pansemiconductor-Industrie eingesetzt und von den beiden größten halbleitergeräteherstellenden Unternehmen in den USA zertifiziert, wodurch die Firma ein erster Anbieter für diese Unternehmen wurde. Die Firma setzt sich für die Strategie der heimischen Substitution ein und hat sich aktiv auf dem Markt für Komponenten für Halbleitergeräte und Fabrikbetriebe positioniert. Es wird erwartet, dass dieser Geschäftssegment weiterhin stark wachsen wird.
Kaimate Gas hat heute die Höchstkursbegrenzung erreicht, und die Aktie hat in den letzten 12 Monaten 27 Mal die Höchstkursbegrenzung erreicht. Die Firma ist hauptsächlich auf die Produktion von hochreinem Kohlendioxid, Wasserstoff, Brenngas und elektronischen Spezialgasen spezialisiert und behält die Spitzenposition in der Kohlendioxid-Industrie bei. Die Firma hat sich um die Weltspitzenunternehmen in der Petrochemieindustrie positioniert und erweitert kontinuierlich die Produktionskapazität für elektronische Spezialgase in den High-End-Bereichen wie Chip-Halbleiter, Raumfahrt und Medizin.
Offizielle Daten zeigen, dass die Spezialgase eine aufkommende Industrie sind, die sich im Rahmen der Industrie der industriellen Gase mit dem Aufstieg der Elektronikindustrie entwickelt hat und zu den Produkten mit hoher Technologie und hohem Mehrwert gehört. Unterteilt man die Spezialgase nach Anwendungsbereichen, so umfassen sie hauptsächlich elektronische Spezialgase, medizinische Gase, Laser-Gase, Elektrolumineszenz-Gase und andere. Darunter werden die elektronischen Spezialgase weit verbreitet in Halbleiterprozessen wie Reinigung, Lithographie, Ätzen, Dotierung und Epitaxie eingesetzt und sind ein unvermeidlicher Bereich für Chinas Streben nach Unabhängigkeit im Halbleiterbereich.
Im Jahr 2017 gründete Kaimate Gas eine Abteilung für elektronische Spezialgase und baute ein Projekt für elektronische Spezialgase auf. Derzeit hat das Lithographiergasprodukt der Firma die Zulassung als qualifizierter Lieferant von ASML's Tochtergesellschaft Cymer und GIGAPHOTON sowie andere Lithographiegerätehersteller erhalten, und das Produkt des Excimer-Laser-Gases hat die Zertifizierung von Coherent (Coherent) erhalten. In Bezug auf die Kunden hat die Firma sich aktiv in die hochwertigen Kunden auf dem nationalen und internationalen Markt eingearbeitet und hat Partnerschaften mit Marktführern wie SMIC und YMTC aufgebaut. Die Firma plant auch, auf der Grundlage von Produktionsstätten in verschiedenen Teilen des Landes die Produktionskapazität zu erweitern, das Kreislaufwirtschaftsmodell zu stärken und die Ressourcennutzungseffizienz zu verbessern. In Zukunft wird die Firma möglicherweise durch die Kapazitätserweiterung neue Wachstumsmöglichkeiten eröffnen, wenn der Prozess der heimischen Substitution von elektronischen Spezialgasen beschleunigt und die Nachfrage in aufkommenden Bereichen wie Wasserstoff steigt.
Dieser Artikel stammt aus dem WeChat-Account "Lanfu Finance Network", Verfasser: Lanfu Finance Network. Veröffentlicht von 36Kr mit Genehmigung.